Экстремальная ультрафиолетовая литография (EUVL) – Отчет

Экстремальная ультрафиолетовая литография (EUVL) это передовая технология, использующая источник света 13.5 нм и являющаяся ведущим кандидатом на узел 22 нм. литография и за его пределами. EUV литография в настоящее время находится на пилотной стадии внедрения инструментов с числовой апертурой 0.33 на предприятиях по производству чипов. Массовое производство ожидается в ближайшем будущем.

EUV – технологические обновления

Множественный рисунок
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Пелликула
Дублированный High NA
Платформа с высокой NA, называемая EXE

EUV-литография: что дальше?

Проблема EUVL – сильное поглощение EUV-излучения всеми материалами. EUV-резисты структурированы таким образом, что печать происходит на очень тонком слое изображения на поверхности резиста. Кроме того, материалы, устойчивые к ультрафиолетовому излучению, должны будут развиваться вместе с предстоящим развитием технологии источников света.

О ТТК
Мы постоянно осознаем ценность новых технологий, реализуемых нашей довольно опытной командой руководителей с профессиональным опытом. Как и в случае с профессионалами в области интеллектуальной собственности, которых мы расширяем, наше стремление к развитию никогда не закончится. Мы УЛУЧШАЕМ, АДАПТИРУЕМ и ВНЕДРЯЕМ стратегически.

Вы также можете Свяжитесь с нами назначить консультацию.

ТТ Консультанты предлагает ряд эффективных и качественных решений для управления вашей интеллектуальной собственностью, начиная от Поиск патентоспособности, Поиск недействительности, FTO (свобода деятельности), Оптимизация патентного портфеля, Патентный мониторинг, Поиск нарушений, Патентные разработки и иллюстрации, и многое другое. Мы предоставляем юридическим фирмам и корпорациям во многих отраслях решения «под ключ».

Скачать отчет